金融界2024年12月21日消息，国家知识产权局信息显示，成都航天博目电子科技有限公司申请一项名为“一种T型栅制备方法以及T型栅”的专利，公开号CN 119153321 A，申请日期为2024年9月。

专利摘要显示，本发明公开了一种T型栅制备方法以及T型栅，所述方法包括：在外延片上沉积氮化硅薄膜并涂布第一光刻胶；使用i线光刻机对第一光刻胶曝光并显影，形成第一光刻胶图案；进行热回流加热形成开口缩小的第二光刻胶图案；对氮化硅薄膜进行刻蚀形成栅极制作窗口；沉积第一金属膜并涂布一层厚胶，使用i线步进式光刻机曝光并显影形成需要电镀的区域；通过电镀使第一金属膜增厚为第二金属膜；涂布第二光刻胶，使用i线步进式光刻机曝光并显影形成需要逆电镀的区域；通过逆电镀去除未被第二光刻胶覆盖的第二金属膜；去除第二光刻胶图案，保留第二金属膜作为T型栅。本发明利用传统i线光刻机就可以制备更小栅长的T型栅，能够降低设备成本，提高制备效率。

来源：金融界

发布于：北京市